光刻機把圖案印上去之后,刻蝕機會根據(jù)印上去的圖案刻蝕掉,光刻機標記出來應(yīng)的區(qū)域和留下剩余的部分。蝕刻機的工作流程主要分前后段。前段一般是硅及硅的化合物的蝕刻,后段主要是金屬和電介質(zhì)的蝕刻??涛g技術(shù)按工藝分類可分為濕法刻蝕與干法刻蝕。其中濕法刻蝕又包括化學(xué)刻蝕與電解刻蝕。濕法刻蝕一般只用于清洗,很少做圖案。干法刻蝕是目前主流的刻蝕技術(shù),它是以等離子體干法刻蝕為主導(dǎo)。光刻只在光刻膠上做好圖案,而在硅片上是沒有圖案的,需要用干法刻蝕的等離子體蝕刻硅片??梢韵胂螅袷谴怪惫杵舷碌囊粓龃笥?,沒有光刻膠保護的硅片就會被轟擊,相當(dāng)于在硅片上挖出一個洞或者槽。做好之后,光刻膠可以通過濕法蝕刻洗去,這樣才能得到有圖案的硅片。